一、發(fā)明專利申請的流程是什么
依據(jù)專利法，發(fā)明專利申請的審批程序分為受理、初審、公布、實質(zhì)審查和授權(quán)五個階段：
（1）受理階段
專利局收到專利申請后進(jìn)行審查，如果符合受理條件，專利局將確定申請日，給予申請?zhí)?，并且核實過文件清單后，發(fā)出受理通知書，通知申請人。如果申請文件未打字、印刷或字跡不清、有涂改的；或者附圖及圖片未用繪圖工具和黑色墨水繪制、照片模糊不清有涂改的；或者申請文件不齊備的；或者請求書中缺申請人姓名或名稱及地址不詳?shù)?；或?qū)＠暾堫悇e不明確或無法確定的，以及外國單位和個人未經(jīng)涉外專利代理機(jī)構(gòu)直接寄來的專利申請不予受理。
（2）初步審查階段
經(jīng)受理后的專利申請按照規(guī)定繳納申請費的，自動進(jìn)入初審階段。初審前發(fā)明專利申請首先要進(jìn)行保密審查，需要保密的，按保密程序處理。
在初審是要對申請是否存在明顯缺陷進(jìn)行審查，主要包括審查內(nèi)容是否屬于《專利法》中不授予專利權(quán)的范圍，是否明顯缺乏技術(shù)內(nèi)容不能構(gòu)成技術(shù)方案，是否缺乏單一性，申請文件是否齊備及格式是否符合要求。若是外國申請人還要進(jìn)行資格審查及申請手續(xù)審查。不合格的，專利局將通知申請人在規(guī)定的期限內(nèi)補(bǔ)正或陳述意見，逾期不答復(fù)的，申請將被視為撤回。經(jīng)答復(fù)仍未消除缺陷的，予以駁回。發(fā)明專利申請初審合格的，將發(fā)給初審合格通知書。對實用新型和外觀設(shè)計專利申請，除進(jìn)行上述審查外，還要審查是否明顯與已有專利相同，不是一個新的技術(shù)方案或者新的設(shè)計，經(jīng)初審未發(fā)現(xiàn)駁回理由的。將直接進(jìn)入授權(quán)秩序。
（3）公布階段
發(fā)明專利申請從發(fā)出初審合格通知書起進(jìn)入公布階段，如果申請人沒有提出提前公開的請求，要等到申請日起滿18個月才進(jìn)入公開準(zhǔn)備程序。如果申請人請求提前公開的，則申請立即進(jìn)入公開準(zhǔn)備程序。經(jīng)過格式復(fù)核、編輯校對、計算機(jī)處理、排版印刷，大約3個月后在專利公報上公布其說明書摘要并出版說明書單行本。申請公布以后，申請人就獲得了臨時保護(hù)的權(quán)利。
（4）實質(zhì)審查階段
發(fā)明專利申請公布以后，如果申請人已經(jīng)提出實質(zhì)審查請求并已生效的，申請人進(jìn)入實審程序。如果申請人從申請日起滿一年還未提出實審請求，或者實審請求未生效的，申請既被視為撤回。
在實審期間將對專利申請是否具有新穎性、創(chuàng)造性、實用性以及專利法規(guī)定的其它實質(zhì)性條件進(jìn)行全面審查。經(jīng)審查認(rèn)為不符合授權(quán)條件的或者存在各種缺陷的，將通知申請人在規(guī)定的時間內(nèi)陳述意見或進(jìn)行修改，逾期不答復(fù)的，申請被視為撤回，經(jīng)多次答復(fù)申請仍不符合要求的，予以駁回。實審周期較長，若從申請日起兩年內(nèi)尚未授權(quán)，從第三年應(yīng)當(dāng)每年繳納申請維持費，逾期不繳的，申請將被視為撤回。
實質(zhì)審查中未發(fā)現(xiàn)駁回理由的，將按規(guī)定進(jìn)入授權(quán)程序。
（5）授權(quán)階段
實用新型和外觀設(shè)計專利申請經(jīng)初步審查以及發(fā)明專利申請經(jīng)實質(zhì)審查未發(fā)現(xiàn)駁回理由的，由審查員作出授權(quán)通知，申請進(jìn)入授權(quán)登記準(zhǔn)備，經(jīng)對授權(quán)文本的法律效力和完整性進(jìn)行復(fù)核，對專利申請的著錄項目進(jìn)行校對、修改后，專利局發(fā)出授權(quán)通知書和辦理登記手續(xù)通知書，申請人接到通知書后應(yīng)當(dāng)在2個月之內(nèi)按照通知的要求辦理登記手續(xù)并繳納規(guī)定的費用，按期辦理登記手續(xù)的，專利局將授予專利權(quán)，頒發(fā)專利證書，在專利登記簿上記錄，并在2個月后于專利公報上公告，未按規(guī)定辦理登記手續(xù)的，視為放棄取得專利權(quán)的權(quán)利。
二、申請發(fā)明專利需要哪些材料
申請發(fā)明專利所需文件：發(fā)明專利請求書；說明書；權(quán)利要求書；說明書摘要；有附圖的可同時提交說明書附圖和摘要附圖。以上文件要求一式兩份。要求減緩各種專利費用的可同時提交費用減緩請求書二份。以上文件必須是打印文字（采用4、小4或5號字的宋體、仿宋體打字或印刷，字跡為黑色，一定要清晰；紙張為A4的打印紙或復(fù)印紙；文章版心位置：距紙張的上邊和左邊留有2.5厘米的邊距，距右邊和下邊留有1.5厘米的邊距），并且一律采用專利局規(guī)定的表格格式。
（一）請求書的撰寫：按照表格的內(nèi)容及提示填寫。
（二）說明書的撰寫：按照發(fā)明或?qū)嵱眯滦兔Q、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造的目的、技術(shù)方案、有益效果、結(jié)合附圖做進(jìn)一步說明、具體實施方式這些步驟逐一進(jìn)行論述。
（三）權(quán)利要求書的撰寫：應(yīng)以說明書為依據(jù)，分獨立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。當(dāng)有多項權(quán)利要求時，應(yīng)以阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號，一般情況下第1項權(quán)利要求即為獨立權(quán)利要求，余下為從屬權(quán)利要求，需要對獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征做進(jìn)一步限定的，即為從屬權(quán)利要求。
1、獨立權(quán)利要求通常分前序部分和特征部分：
a． 前序部分，寫明要求保護(hù)的主題名稱以及與現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；
b． 特征部分，使用“其特征是．．．．．．”或類似的用語，寫明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的獨到技術(shù)特征。前序部分與特征部分一起，構(gòu)成了該專利申請要求保護(hù)的范圍。
2、從屬權(quán)利要求的撰寫包括引用部分和限定部分：
a． 引用部分：寫明引用的權(quán)利要求的編號及其主題名稱；
b． 限定部分：寫明要求保護(hù)的附加技術(shù)特征。
（四）說明書附圖的繪制：實用新型專利必須要有附圖；發(fā)明專利一般有附圖，但如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術(shù)方案的，可以沒有附圖。
1、附圖可以采用多種形式：
a． 對于機(jī)械領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以采用各種視圖反映產(chǎn)品的形狀和結(jié)構(gòu)。
b． 對于電器領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以是電路圖、框圖、示意圖；
c． 對于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以用化學(xué)結(jié)構(gòu)式作為附圖；
d． 對于方法發(fā)明，附圖可以是表示該方法各步驟的工藝流程圖。
2、附圖的要求：
a． 附圖應(yīng)當(dāng)符合機(jī)械制圖國家標(biāo)準(zhǔn)，即應(yīng)當(dāng)使用繪圖工具(或電腦繪圖)，用黑色墨水繪制,線條均勻清晰,圖面不著色,圖周圍不加框線,不要使用鉛筆圓株筆繪制，但附圖不用標(biāo)注比例和尺寸數(shù)據(jù)。
b． 附圖的大小和清晰度，應(yīng)當(dāng)保證圖縮小到4×6厘米時，仍能清晰地分辨出圖中的各個細(xì)節(jié)，并符合照相制版的要求；
c． 同一專利申請的幾幅附圖，可以繪制在同一張專用格式的紙上，并用阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號，用“圖××”的形式來表示。
d． 同一專利申請有多頁附圖的，應(yīng)用阿拉伯?dāng)?shù)字連續(xù)編寫頁碼；
e． 同一專利申請中使用的附圖標(biāo)記必須前后一致，在說明書中未提及的標(biāo)記不得在附圖中出現(xiàn)；
f．附圖中除必要的詞語外，不應(yīng)當(dāng)含有其它注釋。
（五）說明書摘要的撰寫：
a． 摘要應(yīng)當(dāng)寫明發(fā)明或者實用新型所屬的技術(shù)領(lǐng)域、需要解決的技術(shù)問題、主要技術(shù)特征和用途。對申請實用新型的產(chǎn)品應(yīng)寫出其形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合的特征。不應(yīng)寫成廣告或單純產(chǎn)品的功能介紹；
b． 摘要不應(yīng)加標(biāo)題，可以連續(xù)書寫；
c．.對于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明，摘要可以包括申請的化學(xué)式中最能說明發(fā)明特點的一個化學(xué)式。摘要也可以包括數(shù)學(xué)式或反應(yīng)式。
d． 摘要不用分段，全文不得超過200字。
（六）摘要附圖的繪制：對于說明書中有附圖的，應(yīng)單獨提交一幅從說明書附圖中選出的、最能說明技術(shù)特征的一個附圖，來作為摘要附圖，附圖的大小和清晰度應(yīng)保證在該圖縮小到4×6厘米時，仍能清晰地分辨出圖中的各個細(xì)節(jié)。
