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五大步驟教會你如何布局專利申請文件中權利要求

此文章幫助了244人  作者:北京技術開發(fā)律師  來源:法邦網(wǎng)

我國專利法第五十九條第一款規(guī)定:“發(fā)明或者實用新型專利權的保護范圍以其權利要求的內(nèi)容為準,說明書及附圖可以用于解釋權利要求的內(nèi)容。”可見,權利要求書是發(fā)明或者實用新型專利申請文件的核心部分,也是確定專利保護范圍的重要法律文件。本文中,筆者將圍繞“如何在權利要求書中對記載的各項權利要求進行合理布局”進行介紹。

確定主題名稱

一般情況下,在發(fā)明人提供的技術主題的基礎上,可以適當考慮延伸技術主題的保護范圍,以形成更周密的保護網(wǎng)。具體而言,可以從并列型主題和拓展型主題的角度進行延伸。所謂并列型主題,包括某方法及對應某方法的產(chǎn)品、某產(chǎn)品及對應某產(chǎn)品的制造/使用方法等情形;拓展型主題包括某方法及包括某方法的方法、某產(chǎn)品及包括某產(chǎn)品的產(chǎn)品等情形。采用拓展型主題進行延伸,可以涵蓋產(chǎn)業(yè)鏈上更多節(jié)點,幫助專利權人更好地運用專利資產(chǎn)輔助商業(yè)運營。

此外,發(fā)明點一般不宜體現(xiàn)在主題名稱中,否則容易造成劃界不清楚、特征重復等缺陷;功能或效果也不宜體現(xiàn)在主題名稱中,以避免出現(xiàn)對現(xiàn)有技術理解和把握不到位的問題。此外,對于主題名稱,還可以使用一些生僻的專業(yè)術語,以增加競爭對手的檢索難度。

列出所有技術特征

在理解技術方案的基礎上,可以構造特征樹,將技術特征以及技術特征之間的關系同時反映在特征樹中。對于產(chǎn)品類專利申請,其技術要素更多地體現(xiàn)在空間要素上。因此,在分析技術特征時,應重視產(chǎn)品的組成部件及各組成部件之間的關系。對于方法類專利申請,其技術要素更多地體現(xiàn)在時間要素上。因此,在分析技術特征時,應重視方法的組成步驟及各組成步驟之間的關系。

選擇最接近的現(xiàn)有技術,確定要解決的技術問題

確定“要解決的技術問題”這項工作,有可能影響到將來形成的權利要求的保護范圍,因此要給予足夠重視。如何確定“要解決的技術問題”,筆者歸納了以下幾種情況:

1.分析發(fā)明人提出的技術問題,針對該技術問題選擇對比文件(如專利說明書、技術資料、產(chǎn)品等);2.根據(jù)發(fā)明人提供的技術方案檢索到最接近的對比文件,重新確定技術問題;3.檢索到的對比文件已解決發(fā)明人所提出的技術問題,但對比文件中的技術方案不同于發(fā)明人的技術方案,則技術問題不變;4.發(fā)明人提供技術方案,在研究技術方案和現(xiàn)有技術的基礎上幫助發(fā)明人確定技術問題。

篩選必要技術特征,形成獨立權利要求

“獨立權利要求”要求的保護范圍應適當,既要考慮授權需要,又要維護專利權人的最大利益。在實踐中,將“解決技術問題必不可少的技術特征”作為必要技術特征,從而形成獨立權利要求。此外,可以將必要技術特征中與現(xiàn)有技術不同的技術特征作為區(qū)別技術特征,以區(qū)分前序部分和特征部分。在撰寫完獨立權利要求后,可以從技術問題的角度和技術效果的角度進行自查。總之,獨立權利要求中的技術問題、技術方案和技術效果應相互對應,盡量刪除其中不必要的用語和限制。

篩選附加技術特征,形成從屬權利要求

在確定從屬權利要求時,獨立權利要求的技術方案與從屬權利要求的技術方案之間的層次不宜相差過大,在獨立權利要求和限定具體技術方案的從屬權利要求之間,應設定對應中間保護范圍的從屬權利要求。此外,應將從屬權利要求中限定的技術特征落實到具體產(chǎn)品上,尤其是易取證的產(chǎn)品,這樣有利于應對后續(xù)可能出現(xiàn)的專利侵權訴訟。根據(jù)從屬權利要求中附加技術特征與獨立權利要求中必要技術特征的關系,可以將從屬權利要求分為追加型和細化型。例如:

1.一種半導體結構,其特征在于,包括A和B。

2.如權利要求1所述的半導體結構,其特征在于,還包括C。

3.如權利要求1所述的半導體結構,其特征在于,所述A包括D和E。

上述從屬權利要求2為追加型,即其中的附加技術特征C是在獨立權利要求的必要技術特征A和B的基礎上增加的技術特征。從屬權利要求3為細化型,即其中的附加技術特征D和E是對獨立權利要求中的必要技術特征A的進一步限定。因此,可以從追加和細化兩個角度對從屬權利要求進行布局。

此外,在保證技術方案完整清楚的前提下,應盡可能采用單特征限定的方式。仍以上述例子進行說明,上述半導體結構還可以包括G或/和H,即增加以下兩個從屬權利要求:

4.如權利要求1所述的半導體結構,其特征在于,還包括G。

5.如權利要求1或4所述的半導體結構,其特征在于,還包括H。

需要強調(diào)的是,從屬權利要求應盡可能地去引用獨立權利要求。

北京技術開發(fā)律師溫馨提示:

專利權受到侵害時,不論是專利權人還是利害關系人既可以請求專利管理機關進行處理,也可以向法院起訴,通過司法程序來處理。其中,行政程序不是終局裁決,當事人對行政處理不服的,仍可以向人民法院起訴。
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